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    稀土拋光粉

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    產品信息
    產品分類應用領域適用機器適用工件
    普通光學元件磨耗度在80-150間的光學球面、平面玻璃,
    如K9玻璃,石英玻璃等通用硝材。
    平面高拋機器或
    球面擺機。
    磨耗度在80-150球面透鏡及棱鏡,母盤基片的給平面光學玻璃。
    偏軟光學元件可適用于磨耗度在150-250之間較軟材質的光學球面玻璃,
    光學晶體,以及濾光片等,如LaF玻璃,藍玻璃等。
    平面高拋機器或
    球面擺機。
    磨耗度在150-250球面以及要求精度高的平面玻璃,
    如LaF系列玻璃,藍玻璃等。
    偏硬光學元件可適用于磨耗度在100以下的光學球面玻璃,
    平面玻璃拋光,如石英玻璃、熔石英玻璃等。
    平面高拋機器或
    球面擺機。
    磨耗度在100以下球面透鏡,
    平面光學玻璃,如熔石英玻璃等。
    蓋板玻璃適用于觸摸屏等電子產品的蓋板玻璃加工,
    用于掃光工藝,平拋,返修等工藝。
    雙面環拋機。3.5-15寸蓋板玻璃,
    包括平面,曲面,孔以及邊楞。
    TFT玻璃-LCD適用于TFT-LCD液晶顯示屏玻璃減
    薄加工工藝。
    單面研磨拋光機。730mm*920mm四代及以上
    TFT-LCD減薄。


     產品介紹:  

    我公司專注拋光粉領域多年,目前有晶拋(J系列)和美拋(M系列)兩大系列共40余種拋光粉產品。美拋系列是中心粒徑在2.0左右及以上的產品,晶拋系列中心粒徑在2.0以下的產品,兩大系列產品被廣泛應用于光學玻璃、液晶顯示器、光掩膜、水晶飾品、石材等領域,具有穩定性高、懸浮性好、切削率高、表面質量質量好等有點。除已有產品外還可根據客戶需求,定制不同配分、不同硬度、不同顏色的產品,滿足客戶多元化應用需求。

    拋光粉通常由氧化鈰、氧化鋁、氧化硅、氧化鐵、氧化鋯、氧化鉻等組份組成。不同的材料,硬度不同,在水中的化學性質也不同,因此使用場合各不相同。

    鈰基稀土拋光粉是較為重要的稀土產品之一。因其具有切削能力強,拋光時間短、拋光精度高、光潔度高、使用壽命長、操作環境清潔等優點,故比其他拋光粉的使用效果佳,而被人們稱為"拋光粉王"。

    用氧化鈰拋光粉拋光透鏡,一分鐘完成的工作量,如用氧化鐵拋光粉則需要30~60分鐘。所以,稀土拋光粉具有用量少、拋光速度快以及拋光效率高的優點。而且能改變拋光質量和操作環境。一般稀土拋光粉主要用富鈰氧化物,氧化鈰之所以是極有效的拋光用化合物,是因為它能用化學分解和機械摩擦二種形式同時拋光。

    應用領域:

     稀土拋光粉廣泛用于水晶、光學玻璃、光學鏡片、TFT減薄、硬盤玻璃、液晶顯示器、平板玻璃、手機蓋板、觸摸屏、精密光學玻璃、半導體晶片、光掩膜等的拋光。

     

     


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